核心技術 

本公司致力於靶材開發具有多年經驗，已開發熔鑄鍛軋、粉末製造及熱壓燒結、精密機械加工、接合、薄膜濺鍍及其特性分析、貴金屬回收精煉與微量元素分析等7大核心技術，並不斷精進於靶材特性控制，如材料微結構、晶粒尺寸、織構(Texture)及成相控制等。

 

研發能量

本公司具有熔、鑄、鍛、軋、粉末冶金熱壓燒結等核心技術，可因應材料屬性的不同及客戶需求，進行特殊合金配比與製程設計。除持續精進靶材製程能力，並開發特殊合金粉末與銀粉等新材料，成功布局3D列印、金屬射出、銀膠等新產品領域。

• 研發流程概念：

 

 

• 製程研發設備：

• 真空熔煉爐(VIM)、鍛造與軋延設備。
• 真空熔煉噴粉機(VIGA)、熱壓燒結爐(HP)、等均壓熱壓燒結爐(HIP)。
• 管型靶材與銀粉全製程設備。
• 薄膜濺鍍設備包含RF、DC、DC-pulse電源、三靶共濺鍍、反應性濺鍍。

 

競爭優勢

• 擁有堅強研發團隊，能以專業研發設計能力，彈性配合客戶需求，客製化開發高性價比之產品。
• 具有熔、鑄、鍛、軋、粉末冶金熱壓燒結等全製程設備與技術，結合全製程管控，穩定產品品質與交期。
• 在地化服務，緊密配合客戶所需交期，快速回應解決客戶問題，並運用專業技術與設備，提供客戶加值服務。

 

品質保證

 

 

本公司的品質政策為「客戶導向，追求卓越，永續經營，持續開發無有害物質之環保節能產品」。品管程序皆架構在ISO 9001與QC 080000系統上，從進料、製程、成品生產及出貨全程監控，確保產品品質符合客戶需求，並透過各種量測與分析儀器之量化數據確保產品品質。

• 品管設備： 

 

因應精密分析需求，設有物理與化學分析實驗室。在巨觀特性檢驗上，具備精密量測儀器如：三次元量測儀、二次元高度計、硬度計、粗度儀等。化學組成分析具備高階分析儀器如：感應耦合電漿發射光譜(ICP-OES)、火花發光儀、氮氧分析儀、離子層析儀、X射線螢光分析儀(XRF)、微波消化器等。粉末粒徑分析具備比表面積儀(BET)、粒徑分析儀與熱重分析儀(TGA)。顯微組織與結構分析則具有場發射電子顯微鏡(FE-SEM)、X射線繞射分析儀(XRD)與金相顯微鏡等。