裝飾/功能性鍍膜濺鍍靶

濺鍍製程除了應用於光電、電子與半導體產業外，也可應用於表面裝飾與功能性處理，如傳統切削刀具、模具、工具、裝飾、防蝕、玻璃、光學眼鏡等領域。裝飾性及功能性鍍膜的顏色、硬度與抗蝕抗氧化性質，為其附加價值的關鍵所在，主要目的在於增加產品色澤、亮度、減少磨耗、延長產品壽命。

產品用途 

• 裝飾性靶材：Al靶、Cr靶、Ti靶、Nb靶、Cu靶、Zr靶等金屬及合金靶材。
• 電磁干擾用靶材(Electromagnetic Interference, EMI)靶材：Cu靶、Ni alloy靶、SUS靶、Ag靶。
• 系統封裝(System in Package, SiP)低頻靶材：Fe alloy靶、Co alloy靶、Ni alloy靶。
• 不導電真空金屬鍍膜用靶材(Non Conductive Vacuum Metallization, NCVM)：In靶、Sn靶、Si alloy靶。

產品優勢 

• 可依客戶需求進行客製化生產。
• 具有合金配比、顯微組織均勻、晶粒細化與分析之總合控制能力。
• 靶材成形、加工整形與接合，全程In-house掌控，品質穩定性高。
• 具有競爭力與在地化服務優勢。