薄膜电晶体型式之液晶显示器(TFT-LCD, Thin film transistor liquid crystal display)具有低耗电、高亮度与反应速度快等优点，成为近年来全球显示器产业的重点。LCD制程中的阵列基板或是彩色滤光片镀膜，皆仰赖高均匀性与平坦性的薄膜。本公司可大量供应TFT-LCD、AM-OLED显示器产业所需的相关靶材，其中包含高纯度铝靶、钼靶、铜靶、钛靶等。除可掌握稳定料源及精准控制热机制程，确保产品品质；另一方面随着面板厂靶材尺寸放大，本公司亦同步提升接合技术因应客户需求，为国内外TFT-LCD产业用各世代溅镀靶材制造厂，市场占有率高。

产品用途 

• 驱动电极材料：Al(5N) 靶、Al alloy靶、Cr靶、Ti靶、Mo靶、Cu靶。
• 黑色矩阵材料：Cr靶。
• 透明电极材料：ITO (In₂O₃-SnO₂)靶。
• 扩散阻绝材料：Mo靶、Cr靶。
• 介电材料：Al₂O₃靶、SiO₂(Si靶+气体反应性溅镀)。

产品优势 

• 掌握高纯度原料与集团加工制程，全程In-House管控，品质稳定性高。
• 全世代尺寸量产供应(G1~G10.5)，市占率高供货稳定。
• 特殊金属化层接合接口，接合强度高。
• 平面与旋转靶材同步供应。

玻璃世代尺寸与靶材尺寸对照表

记录媒体主要分为光记录(ODS)与磁记录(MDS)媒体两种，光记录媒体又可分为CD、DVD与BD系列等。制造记录盘片时，良好的薄膜特性与溅镀效率为基本要求。本公司累积多年研究经验，针对靶材之清净度、微观组织和回收系统等，发展出最具经济效益的技术整合与品质服务，为客户提供高性价比之产品，目前为全球光盘片用溅镀靶材的主要制造供应商。

产品用途 

• 反射层：Ag靶、Ag alloy靶、Cu alloy靶、Al alloy靶、Si靶。
• 介电层：ZnS靶、Ge靶。

产品优势 

• 银靶：
• 进口高纯度银熔炼，确保溅镀效率与薄膜品质。
• 一贯连续生产线，并搭配银回收技术减少损耗，降低生产成本。
• 银合金靶：
• 适用于高容量光盘片（如DVD-9、DUAL、BD）之反射层，其镀膜可兼具良好均匀性及耐候性。
• 铜合金靶：
• 可仿黄金色泽，为CD与 DVD黄金片的最佳选择。
• 铝合金靶：
• 具有纯度、合金配比、显微组织均匀与晶粒细化等总合控制能力。

近年来，由于新兴国家的快速发展，导致各种能源短缺，全球的气候变迁、环境污染及生态浩劫均显示危急的情况，无污染、无虞匮乏并足够全世界长期使用的绿色能源-太阳能，备受各界瞩目与期待。铜铟镓硒(Cu(InGa)Se2, CIGS)薄膜太阳能电池，其电池稳定性佳，效率稳定几乎不衰减，且弱光特性好，具有相当优势。因应靶材国内自制化，本公司以现有技术开发新制程，有助于提升国内薄膜太阳能产业竞争力。

产品用途 

• 光电转换吸收层：Cu-Ga靶、Cu-Ga-Na靶、In靶。
• 导电层：Mo靶。
• 透明导电层：AZO靶。

产品优势 

• 自行开发新制程、新配方，具有竞争力与在地化服务优势。
• 特殊混炼制程，成份组成均匀性佳。
• 粉末制备、靶材成形、加工整形与接合，全程In-house掌控，品质稳定性高。

溅镀制程除了应用于光电、电子与半导体产业外，也可应用于表面装饰与功能性处理，如传统切削刀具、模具、工具、装饰、防蚀、玻璃、光学眼镜等领域。装饰性及功能性镀膜的颜色、硬度与抗蚀抗氧化性质，为其附加价值的关键所在，主要目的在于增加产品色泽、亮度、减少磨耗、延长产品寿命。

产品用途 

• 装饰性靶材：Al靶、Cr靶、Ti靶、Nb靶、Cu靶、Zr靶等金属及合金靶材。
• 电磁干扰用靶材(Electromagnetic Interference, EMI)靶材：Cu靶、Ni alloy靶、SUS靶、Ag靶。
• 系统封装(System in Package, SiP)低频靶材：Fe alloy靶、Co alloy靶、Ni alloy靶。
• 不导电真空金属镀膜用靶材(Non Conductive Vacuum Metallization, NCVM)：In靶、Sn靶、Si alloy靶。

产品优势 

• 可依客户需求进行客制化生产。
• 具有合金配比、显微组织均匀、晶粒细化与分析之总合控制能力。
• 靶材成形、加工整形与接合，全程In-house掌控，品质稳定性高。
• 具有竞争力与在地化服务优势。

微电子元件须具备产量大、体积小且性能差异小等特性，靶材组成成分的准确性大大地影响该产品薄膜电气特性，因此在靶材制造过程必须考虑材料纯度、清净度与均匀性。本公司除致力于发展高纯度靶材外，也针对合金元素的添加配制及组织均匀性，发展出多项Know-How，提供优良的微电子用溅镀靶材。

产品用途 

• 电阻层(及端电极)：Ni-Cr alloy靶、Cr靶、Ni靶、Ta靶、Cu靶与W-Si靶等。
• 可配合客制开发各种二元、三元及四元合金，包括Ni-Cr靶、Ni-V靶与Ni-Ti靶等。
• 石英震荡器元件：Ag靶、Ag alloy靶、Ni靶、Cr靶、Au靶。
• 整流二极管之侧导及电阻层：Ni-Cr alloy靶。

产品优势 

• 拥有二元或多元合金靶材之制造能力，亦可客制化靶材开发。
• 合金组成均匀，精确控制热机制程，确保再结晶晶粒组织，可获得大面积镀膜之均匀性。
• 具粉末冶金及预合金化制程能力，可避免析出物及成分偏析，稳定产品品质。

旋转靶有别于平面靶，使用率可达70~80%，成膜速度较快，另外还有回镀少、异常放电少与安定性高等优点。本公司可量产供应显示器、触控面板及节能玻璃产业所需的相关旋转靶材，包含高纯度铝靶、钼靶、铜靶、钛靶、银靶、镍合金靶、矽靶与氧化铌靶等；其中铝、钼靶已通过知名美商8.5代溅镀产线验证。另一方面随着面板厂靶材尺寸放大，本公司亦同步提升旋转靶接合技术因应客户需求，为国内第一家TFT-LCD产业用大尺寸旋转靶材制造厂。

产品用途

• 驱动电极材料：Al(5N)靶、Mo靶、Cu靶、Ti靶。
• 扩散阻绝材料： Mo靶。
• Low-E节能玻璃：Ag靶、Ni alloy靶。
• 抗反射层材料：Nb2Ox靶、Si靶。

产品优势

• 掌握高纯度原料与集团加工制程，全程In-House管控，品质稳定性高。
• 全世代尺寸量产供应(G5.5~G10.5)，市占率高供货稳定。
• 特殊金属化层接合接口，接合强度高。

镍含量超过30wt%即为镍基合金，常见镍合金之镍含量已超过50wt%，其中添加较大量的Ni为沃斯田铁相稳定元素，使得镍基合金维持FCC结构而可以溶解更多其他合金元素，还能保持较好的组织稳定性与材料塑性，因而拥有超群的高温机械强度与耐蚀性质，是高温材料中应用最广、强度最高的合金，已广泛应用于航太、能源、石化、电子及光电等产业。借由中钢集团公司资源整合，开发盘元耐酸洗吊钩及耐高温辐射弯管，已可大量稳定供应，并客制化相关产品应用。

产品用途 

• Hastelloy C-276合金添加铬、钼固溶强化元素，高温下仍保有优异的机械强度，现代金属材料中最耐蚀的一种。可抵抗多种严苛环境之均匀腐蚀、应力腐蚀、孔蚀等，为兼具耐高温与耐蚀之镍基合金。。
• Incoloy 825合金为含有较高的镍，并添加铬、铁固溶强化元素之镍基超合金，可增加对还原酸之抗蚀能力，如硫酸、磷酸等还原酸及抗盐酸应力腐蚀等。
• Incoloy 800H合金添加铝、钛具高温抗潜变性能，抗高温氧化、碳化、潜变、疲劳，可用于高温作业。

产品优势 

• 整合集团原料与加工制程，全程In-House管控，品质稳定性高。
• 以高性价比之经济效益，供应耐热与耐蚀镍基合金材料，可节省设备维护成本，兼顾实用性与安全性，并配合开发客制化之产品，欢迎洽询相关产品。

采用独特金属化润湿处理制程，进行异质材接合(bonding)，可避免传统溅镀金属化之高成本，针对大尺寸靶材接合，将是最佳的选择。同时配有高均温性大型加热板、大型平面度校正机、大型超音波检测系统与搬运机具等周边设备，可确保接合品质，足以因应TFT-LCD 各世代面板之需求。

服务项目 

• 金属类、氧化物及脆性等多样化靶材接合服务。

真空热压烧结系利用高温高压，将粉末预形体烧结致密化，举凡光电产业用溅镀靶材及粉末冶金类之零件，均可利用热压烧结达到致密化效果，显著提升产品品质。本公司热压烧结产品，已应用于光记录媒体、硬盘、被动元件、薄膜太阳能电池等领域，品质深获客户好评。

服务项目

• 金属及陶瓷产品烧结代工服务。

本公司于金属锻造产品之研发及生产有多年的经验，产品已应用于光记录媒体、塑胶装饰镀膜、被动元件、光学镀膜元件、半导体、平面显示器等领域，品质获客户肯定。金属制品系在特定的温度之下对金属原料进行熔炼→浇铸→锻造，凡光电产业用溅镀靶材及冶金类零件，均可利用锻造达到晶粒细化的效果，可显著提升产品的使用效能。

服务项目

• 多样化合金热机锻造服务。

本公司经营贵金属产品长达10多年，已为台湾最大实体银料进口厂商，其中4N高纯度银已销售于光电产业靶材、无铅銲锡銲料与银粉。本公司除拥有稳定料源、高纯度品质、即时供货与服务能力，亦可结合本公司完整的贵金属精炼回收技术，进一步提升产品附加价值。

服务项目 

• 各式银、铟贵金属买卖。

具完备的贵金属精炼回收技术，可将各种形态之低纯度贵金属，利用化学置换及电解析出，进行精炼提纯，为客户创造可再回收利用的价值，目前回收产品囊括银、铟、金、铂、钯等贵重金属。具有高纯度控制、高回收率等优点，并提供回收、精炼、提纯与分析等一条龙服务。

服务项目 

• 各式银、铟、金、铂、钯及等贵金属回收。

本公司除具有微量元素分析核心技术，并具备物性、化性与显微观察分析等专业能力，目前提供委讬者显微组织观察服务。

委讬分析项目与步骤说明

1. 场发射扫瞄式电子显微镜(FE-SEM)微区观察。
2. 能量分散光谱(EDS)微区成份分析。

注：报告内容仅针对该样品负责

样品条件

1. 样品种类：必须为干燥之固体或粉体。
2. 分析材质：不得含水气、挥发性物质、有毒性、腐蚀性或低熔点。

分析案例说明